: 2.3.5 40MeVへの延長工事
: 2.3 40 MeV リニアックの製作
: 2.3.3 DTLデザイン
目次
索引
図2.4と図2.5に40 MeV 陽子リニアックのチューニング前と後の電場分布を示す。結果的には、期待通りの共振周波数と加速電場分布が得られ、なんらの追加予算の必要もなく、期限内に完成できた。多くの方々から援助していただき、感謝する次第である。この時の測定では、やはり空洞の電気的抵抗の良さを示すＱ値がよくない事が気になっていた。よくないと言っても、先に作った20 MeV DTL と同程度である。ここまで使っていたピロリン酸光沢鍍金は、仕上がりの表面はピカピカで良いのだが、光沢剤とかの不純物の影響なのかＱ値としては特筆出来るようなものではない。後年、硫酸銅鍍金で電気抵抗が素晴らしく良いものが候補になった時（ＰＲ銅電鋳法）、とにかくこれを追及してみようとしたのは、ここでの経験が大きかったと思われる。
図 2.4:
40 MeV陽子リニアックの電場測定結果（1985年）。これは、チューナーとポストカップラーと使ってチューニングをする前の分布。参考文献（１）
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図 2.5:
40 MeV陽子リニアックの電場測定結果（1985年）。これは、チューナーとポストカップラーと使ってチューニングをして、電場の安定化を行った後の分布。参考文献（１）
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図 2.6:
40 MeVリニアック空洞内部。中心にある円筒形がドリフトチューブ。横から突き出ている棒がポストカップラーで、空洞の電場分布を安定にさせる働きをする。
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図 2.7:
KEK トンネル内に設置された40 MeVリニアックの内部と端板。
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参考文献（１）T. Kato, "Design and RF tuning of the KEK 40 MeV proton linear accelerator", KEK Report 86-5 (1986).
: 2.3.5 40MeVへの延長工事
: 2.3 40 MeV リニアックの製作
: 2.3.3 DTLデザイン
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